非晶硅太阳能电池生产工艺流程

一、 薄膜电池种类:
非晶硅档案2013a-Si纳晶硅(nc-Si微晶硅(μc-Si多晶硅(poly-Si)碲化镉(CdTe铜铟镓硒(CuInGaSe染料(T i O2陶瓷有机
二、 盈余公积非晶硅薄膜电池的结构:载体(玻璃)火山灰反应导电膜(正极)非晶硅(a-Si)(p-i-n金属膜(负极)
三、 导电膜(TCO)种类:SnO2——硬膜;  ZnOITO——软膜
四、 非晶硅层结构种类:a-Si——a-Si / a-Si——a-Si / a-SiGe——a-Si / a-SiGe / a-SiGe——poly-Si——a-Si /poly-Si
五、 金属膜种类:Al——Ag——ZnO
六、 膜层形成方式:TCO——化学沉积(喷涂);  a-Si——气相沉积;  Al——磁控溅射
七、 叉车技术膜层厚度:TCO——0.70.8μm  a-Si——0.30.5μm  Al——0.81μm
八、 切割使用激光波长:TCO——1064 nm  a-Si /Al——532 nm
乌拉圭回合九、 非晶硅薄膜电池膜层结构及切割要求示意:
一十、 封装:双层玻璃,EVA夹层,层压封装;或贴PVC防护膜;或涂光洁树脂等。
日耳曼语族
一十一、 测试:负载匹配、数据采集、光源脉宽、响应时间。
一十二、 主要生产工艺流程(如下)

本文发布于:2023-06-23 15:36:10,感谢您对本站的认可!

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